一種寬帶高透過單層AR減反射鍍膜的制備方法

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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè)，公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū)，專業(yè)的光電鍍膜公司，技術(shù)背景依托中國科學(xué)院，卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

摘要：本文詳細(xì)闡述一種寬帶高透過單層 AR 減反射鍍膜的制備方法，通過解析鍍膜材料選擇、工藝優(yōu)化及參數(shù)調(diào)控等關(guān)鍵環(huán)節(jié)，介紹如何實(shí)現(xiàn)單層膜在寬光譜范圍內(nèi)的高效減反射與高透光性能。結(jié)合材料光學(xué)特性、物**相沉積等制備工藝技術(shù)要點(diǎn)，為相關(guān)領(lǐng)域提供兼具理論深度與實(shí)踐價(jià)值的技術(shù)參考。

關(guān)鍵詞：寬帶高透過；單層 AR 減反射鍍膜；制備方法；鍍膜材料；物**相沉積

一種寬帶高透過單層 AR 減反射鍍膜的制備方法

在光學(xué)技術(shù)不斷革新的當(dāng)下，AR 減反射鍍膜廣泛應(yīng)用于各類光學(xué)器件、消費(fèi)電子產(chǎn)品之中，其性能直接影響著設(shè)備的光學(xué)表現(xiàn)。傳統(tǒng)多層 AR 減反射膜雖能實(shí)現(xiàn)較好的減反射效果，但存在工藝復(fù)雜、成本較高等問題。而寬帶高透過單層 AR 減反射鍍膜憑借簡潔的結(jié)構(gòu)與出色性能，成為眾多科研與產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。那么，這種神奇的單層鍍膜是如何制備出來的呢？讓我們深入探索其制備方法背后的技術(shù)奧秘。

一、鍍膜材料的精準(zhǔn)選擇

（一）材料光學(xué)特性要求

制備寬帶高透過單層 AR 減反射鍍膜，關(guān)鍵在于選擇合適的鍍膜材料，材料的光學(xué)特性對*終鍍膜性能起著決定性作用。首先，材料需具備合適的折射率。為實(shí)現(xiàn)寬帶減反射效果，材料折射率需滿足特定的光學(xué)匹配條件。一般而言，對于常見的玻璃基底，鍍膜材料折射率需在 1.2 - 1.7 之間，以確保在寬光譜范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)有效的光干涉效應(yīng) 。材料的色散特性也至關(guān)重要，低色散材料能減少不同波長光線在膜層中的傳播差異，避免因色散導(dǎo)致的光譜反射不均勻現(xiàn)象，從而保證寬帶高透過性能 。

（二）常用材料及特性

1. 氟化鎂（MgF?）

   ：氟化鎂是制備單層 AR 減反射鍍膜的經(jīng)典材料，其折射率約為 1.38（在可見光波段） 。它具有良好的光學(xué)透明性和化學(xué)穩(wěn)定性，在可見光范圍內(nèi)吸收損耗極低。由于其折射率相對較低，常用于與高折射率基底材料搭配，通過**控制膜層厚度，利用光的干涉原理，可在特定波段實(shí)現(xiàn)高效減反射 。在普通光學(xué)鏡片的單層 AR 鍍膜中，氟化鎂能夠有效降低鏡片表面的反射率，使光線更順暢地透過鏡片，減少眩光干擾 。

1. 二氧化硅（SiO?）

   ：二氧化硅也是常用的單層 AR 鍍膜材料，折射率約為 1.45（可見光波段） 。與氟化鎂相比，二氧化硅具有更好的硬度和耐磨性，適合對表面耐磨性要求較高的應(yīng)用場景。其化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)，不易與環(huán)境中的化學(xué)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，能夠保證鍍膜長期穩(wěn)定工作 。在一些對光學(xué)性能和耐用性都有要求的光學(xué)元件中，如相機(jī)鏡頭的保護(hù)鏡片，二氧化硅單層 AR 鍍膜既能實(shí)現(xiàn)減反射效果，又能有效保護(hù)鏡頭表面 。

1. 新型納米材料

   ：隨著材料科學(xué)的發(fā)展，一些新型納米材料也逐漸應(yīng)用于單層 AR 減反射鍍膜制備。例如，納米二氧化鈦（TiO?）摻雜材料，通過納米級(jí)別的摻雜改性，可調(diào)節(jié)材料的折射率和光學(xué)性能 。這些新型材料不僅具備良好的光學(xué)特性，還可能擁有獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì)，如自清潔、抗污染等，為單層 AR 鍍膜賦予更多功能 。

二、制備工藝的優(yōu)化實(shí)施

（一）物**相沉積（PVD）工藝

1. 真空蒸發(fā)鍍膜

   ：真空蒸發(fā)鍍膜是制備單層 AR 減反射鍍膜的常用方法之一。該工藝將鍍膜材料放置在真空室內(nèi)的蒸發(fā)源上，通過加熱使材料蒸發(fā)為氣態(tài)原子或分子 。這些氣態(tài)粒子在真空中自由擴(kuò)散，遇到基片表面后沉積形成薄膜 。在使用真空蒸發(fā)鍍膜制備氟化鎂單層 AR 鍍膜時(shí)，需**控制蒸發(fā)溫度、蒸發(fā)速率和沉積時(shí)間等參數(shù) 。蒸發(fā)溫度過高，可能導(dǎo)致材料分解或蒸發(fā)不均勻；溫度過低，則蒸發(fā)速率慢，影響鍍膜效率和質(zhì)量 。通過合理調(diào)控這些參數(shù)，能夠制備出厚度均勻、光學(xué)性能良好的單層鍍膜 。

1. 濺射鍍膜

   ：濺射鍍膜憑借其膜層均勻性好、附著力強(qiáng)等優(yōu)勢，在單層 AR 鍍膜制備中也得到廣泛應(yīng)用 。該工藝?yán)酶吣茈x子束轟擊靶材，使靶材原子或分子獲得足夠能量從表面濺射出來，然后沉積在基片上形成薄膜 。在制備二氧化硅單層 AR 鍍膜時(shí)，采用磁控濺射技術(shù)，通過調(diào)節(jié)濺射功率、工作氣體流量（如氬氣）和基片溫度等參數(shù)，可**控制膜層的生長速率和成分 。磁控濺射能夠?qū)崿F(xiàn)較高的沉積速率，且制備的膜層致密性好，有助于提高單層鍍膜的光學(xué)性能和機(jī)械性能 。
   

（二）其他**工藝探索

除了傳統(tǒng)的 PVD 工藝，一些**工藝也為單層 AR 鍍膜制備提供了新途徑。例如，溶膠 - 凝膠法通過將金屬醇鹽或無機(jī)鹽水解形成溶膠，再經(jīng)涂覆、干燥和熱處理等過程制備薄膜 。該方法操作簡單、成本較低，適合大面積基片鍍膜 。在制備大面積玻璃的單層 AR 鍍膜時(shí)，溶膠 - 凝膠法可通過旋涂或浸涂方式將溶膠均勻涂覆在基片表面，經(jīng)后續(xù)處理形成減反射膜 。雖然該方法制備的膜層在光學(xué)性能均勻性上可能稍遜于 PVD 工藝，但通過工藝優(yōu)化和材料改進(jìn)，也能實(shí)現(xiàn)較好的寬帶高透過減反射效果 。

三、關(guān)鍵參數(shù)的**調(diào)控

（一）膜層厚度控制

膜層厚度是影響單層 AR 減反射鍍膜性能的關(guān)鍵參數(shù)。根據(jù)光的干涉原理，只有當(dāng)膜層厚度滿足特定條件時(shí)，才能實(shí)現(xiàn)高效減反射 。對于單層 AR 鍍膜，其光學(xué)厚度（膜層厚度與材料折射率的乘積）通常需設(shè)計(jì)為目標(biāo)波長的四分之一 。在實(shí)際制備過程中，需采用高精度的膜厚監(jiān)控設(shè)備，如石英晶體振蕩法或光學(xué)監(jiān)控法，實(shí)時(shí)監(jiān)測膜層厚度 。當(dāng)膜層厚度接近設(shè)計(jì)值時(shí)，需**控制鍍膜過程，避免厚度偏差影響減反射效果 。

（二）工藝參數(shù)協(xié)同優(yōu)化

除了膜層厚度，制備工藝中的其他參數(shù)也需協(xié)同優(yōu)化。在真空蒸發(fā)鍍膜中，蒸發(fā)速率和基片溫度會(huì)影響膜層的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能 。較高的蒸發(fā)速率可能導(dǎo)致膜層結(jié)構(gòu)疏松，影響光學(xué)均勻性；基片溫度過低，膜層與基片的附著力可能不足 。在濺射鍍膜中，濺射功率、工作氣體壓力等參數(shù)相互關(guān)聯(lián)，需通過實(shí)驗(yàn)和模擬計(jì)算找到*佳參數(shù)組合 。通過反復(fù)調(diào)整和優(yōu)化這些工藝參數(shù)，才能制備出滿足寬帶高透過要求的單層 AR 減反射鍍膜 。

四、質(zhì)量檢測與性能提升

（一）光學(xué)性能檢測

制備完成后，需對單層 AR 減反射鍍膜進(jìn)行嚴(yán)格的光學(xué)性能檢測。主要檢測指標(biāo)包括反射率、透過率和光譜特性 。使用分光光度計(jì)可測量不同波長下鍍膜的反射率和透過率，繪制光譜曲線 。通過分析光譜曲線，判斷鍍膜是否在目標(biāo)寬帶范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)了低反射率和高透過率 。若反射率在某些波長出現(xiàn)峰值，或透過率未達(dá)到預(yù)期值，則需分析原因，調(diào)整制備工藝參數(shù)重新制備 。

（二）性能提升方向

為進(jìn)一步提升寬帶高透過單層 AR 減反射鍍膜的性能，可從材料和工藝兩方面入手。在材料方面，研發(fā)新型光學(xué)材料或?qū)ΜF(xiàn)有材料進(jìn)行改性，以優(yōu)化材料的光學(xué)和物理性能 。在工藝方面，探索更先進(jìn)的鍍膜技術(shù)，如原子層沉積（ALD），利用其原子級(jí)精度的沉積特性，**控制膜層厚度和成分，有望實(shí)現(xiàn)更優(yōu)異的寬帶減反射效果 。

從鍍膜材料的精心篩選，到制備工藝的優(yōu)化實(shí)施，再到關(guān)鍵參數(shù)的**調(diào)控以及*后的質(zhì)量檢測與性能提升，每一個(gè)環(huán)節(jié)都凝聚著科研人員的智慧與努力。這種寬帶高透過單層 AR 減反射鍍膜的制備方法，不僅為光學(xué)領(lǐng)域提供了一種高效、經(jīng)濟(jì)的鍍膜解決方案，也為未來光學(xué)器件和電子產(chǎn)品的性能提升奠定了基礎(chǔ) 。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，相信單層 AR 減反射鍍膜技術(shù)將迎來更大的突破與發(fā)展 。

關(guān)于我們

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  卷柔減反射(AR)玻璃的特點(diǎn):高透,膜層無色,膜硬度高,抗老化性強(qiáng)(耐候性強(qiáng)于玻璃),玻璃長期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機(jī)玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護(hù)玻璃等多行業(yè)。
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